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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】公開特許公報(A)
(11)【公開番号】特開2014-233722(P2014-233722A)
(43)【公開日】平成26年12月15日(2014.12.15)
(54)【発明の名称】放射線や電磁波等の波動エネルギーの透過抑制技術
(51)【国際特許分類】
B05D 5/00 (2006.01)
G21F 1/08 (2006.01)
G21F 3/00 (2006.01)
G21H 1/00 (2006.01)
G21F 9/28 (2006.01)

【FI】
B05D 5/00 Z
G21F 1/08
G21F 3/00 G
G21H 1/00
G21F 9/28 Z

【審査請求】未請求
【請求項の数】3
【出願形態】書面
【全頁数】5
(21)【出願番号】特願2013-128981(P2013-128981)
(22)【出願日】平成25年6月3日(2013.6.3)
(71)【出願人】
【識別番号】394023975
【氏名又は名称】小島 功
【住所又は居所】埼玉県さいたま市南区太田窪2126-1
(71)【出願人】
【識別番号】596079312
【氏名又は名称】守谷 和夫
【住所又は居所】埼玉県所沢市三ヶ島3丁目783番地
(72)【発明者】
【氏名】小島 功
【住所又は居所】埼玉県さいたま市南区太田窪2126-1
(72)【発明者】
【氏名】守谷 和夫
【住所又は居所】埼玉県所沢市三ケ島3-783
【テーマコード(参考)】
4D075
【Fターム(参考)】
4D075 CA22 CA25 DB13 DB38 EB01

(57)【要約】
【課題】従来技術は、コンクリートや鉛・鉛ガラス等の重金属の質量・密度の原則で膨大なコストと材料を要して放射線等の透過抑制機能を成し得てきたが、本発明は、通電性薄膜技術で従来技術に匹敵する放射線等の透過抑制機能を発現する技術を提供する。
【解決手段】本通電性薄膜技術は、仮説では有るが通電薄膜が波動エネルギーを吸収し反応する事でエネルギー変換を発現し、結果的に透過抑制効果を実現する組み合わせ技術です。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
液晶電極等に使用実績の有る酸化インジウム錫(スズドープ酸化インジニウム)を主原料としたITO(Indium Tin Oxide)溶液又は、同様の通電性・帯電性素材をガラス、塩ビ、その他の面構成材表面又は裏面又は両面に薄膜コーティングを施した面材で、放射線の透過抑制機能又はエネルギー変換機能を発現する応用技術。
【請求項2】
請求項1の通電性コーティング膜が放射線波動エネルギーや電磁波等の波動エネルギー・太陽光等の波動エネルギーを吸収し、反応する事で透過抑制等の機能性が発現する波動エネルギー変換応用技術。資料1参照
【請求項3】
請求項1記載の放射線透過抑制機能は、従来からの学説で質量と密度を増大する事で透過抑制機能を得られると考えられていた、しかし本発明は、この学説によらない放射線透過抑制機能を提供する。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
ガラスや塩ビシート・アクリル板・ポリカーボネイト板等の透光性面材や金属・セラミック・繊維・樹脂・合成樹脂・木材等の面材と塗料等の表面処理材料との組み合わせで放射線や電磁波等の波動エネルギーの透過抑制技術
【背景技術】
【0002】
従来技術は、請求項3で示した質量・密度の増大で放射線等の波動エネルギー透過を抑制する実績が主流であった、質量や密度を増大する方法を使用すると大量の質量と大重量の密度物質により構成される放射線透過抑制物質は膨大なコストと大きな体積、容積条件を満たさなければ実現できない技術であった、本発明は波動エネルギー吸収・反応による新たな技術の提供である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0003】
従来技術は、上記002記載の質量・密度の原則で膨大なコストと材料を要して放射線等の透過抑制機能を成し得てきたが、本発明は、請求項1記載の通電性薄膜技術で従来技術に匹敵する放射線等の透過抑制機能を発現する技術を提供する。
【0004】
003記載の通電性薄膜技術は、仮説では有るが通電薄膜が波動エネルギーを吸収し反応する事でエネルギー変換を発現し、結果的に透過抑制効果を実現する組み合わせ技術です。
【0005】
放射能汚染物質焼却灰や汚染土壌等の放射線発生物質に静電気が作用すると気圧低下が生じ、容積量や体積量が減少する。よって汚染物質の少量化に貢献できる。
【0006】
000002


000003


000004